MueTec为掩膜的生产与检测提供高精度和高重复性系统,包括但不限于COG和PSM掩模。测量包括掩模上CD一致性的分布,同时提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小至300nm的特征尺寸,3sigma重复性通常在纳米范围内。

对于掩膜来料测量和检测,MueTec提供长距离工作物镜,用于通过保护膜的测量。


PRODUCTS
  • DaVinci 270UV
    密封式CD测量
    DaVinci 270UV

    典型应用

    CD测量


    主要特点

    自动化动装卸

    可见光,紫外光,反射光,投射光

    灵活配置



  • MT270UV
    开放式半自动测量检测系统(OC)
    MT270UV

    典型应用

    CD测量

    Overlay测量

    膜厚测量

    缺陷检测

    缺陷review


    主要特点

    手动装卸

    可见光,紫外光

    支持75-200mm晶圆

    支持KLARF/TSK文件输出

    SECS/GEM