方案优势
产品参数
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TZDI-06
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TZDI-04
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平台类型
双台面
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最大曝光尺寸(mm)
630×810
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基板厚度(mm)
0.025 - 6
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最小线宽线距(μm)
6
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线宽精度
±1
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对位精度(μm)
±6
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层间对位精度(μm)
12
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景深(μm)
±75
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单机产能
30 秒/ 面 @20mj/cm²
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自动线产能
30秒/ 片 @20mj/cm²
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推荐应用
IC substrate
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平台类型
单台面
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最大曝光尺寸(mm)
630×610
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基板厚度(mm)
0.025 - 5
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最小线宽线距(μm)
4
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线宽精度
±0.75
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对位精度(μm)
±5
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层间对位精度(μm)
10
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景深(μm)
±200 选配主动聚焦
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单机产能
60 秒/ 面 @20mj/cm²
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推荐应用
ICS、SLP
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