天准为掩膜生产过程中的测量和检测提供高精度、高重复性系统,适用产品包括但不限于COG和PSM。


针对掩膜来料测量与检测,天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布,同时系统提供可见光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300nm的特征尺寸,3sigma重复性通常在纳米范围内。


掩膜检测采用Die-to-Die的方法,检测掩膜版上统计类型的缺陷,可用于监视在功率半导体、LED和MEMS领域中晶圆制造使用的掩膜,判断掩膜状态是否良好,是否需要清洁、修复或更换。

主要特点

Mask CD测量、缺陷检测、Review

最大支持14寸掩膜以及定制形状

可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

Spector
主要特点

Mask CD测量

最大支持6寸掩膜

可配置可见光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

MT270UV
主要特点

Mask膜厚,CD测量

可配置可见光、紫外光、红外光

SECS/GEM

长期维护成本低,稳定可靠

MT2010 VIS/UV