Spector

掩模关键尺寸（CD）测量系统

面向先进掩模制造的高精度光学量测平台

Spector 是专为半导体掩模制造中的关键尺寸（Critical Dimension）测量打造的⾼端光学量测系统，支持大 14 英寸掩模的高精度测量，全面满足至 65 nm 工艺节点的掩模检测需求。 

系统可选配紫外光源，并对光学器件进行专门优化，确保关键尺寸测量重复性优于 1.5 nm，满足高稳定性和高一致性的量测要求。Spector 采用全封闭式设计，支持 SMIF 传输接口和全自动化搬运流程，满足洁净环境下的自动化生产需求。 同时，系统内置标准 SECS/GEM 通讯协议，便于无缝集成至 fab 自动化系统，助力客户实现高度自动化，智能化的掩模制造流程。