MT270UV

掩模关键尺寸（CD）测量系统

高精度紫外光学量测解决方案，助力先进掩模制造工艺

MT270UV 是专为半导体掩模制造中的关键尺寸（Critical Dimension）测量而设计的高性能光学量测系统，支持最大尺寸达 9 英寸的掩模测量，覆盖至 65 nm 节点的先进晶圆制造需求。

该系统采用高稳定性紫外光源，并对光学测量系统进行深度优化，使关键尺寸测量的重复性优于 2 nm，确保测量结果的高度一致性与可靠性。凭借超过 20 年的技术积累与持续优化，MT270UV 已在全球主流掩模制造企业实现广泛部署与验证，成为行业内公认的标准化关键尺寸测量设备。其成熟、稳定、可靠的性能表现，为掩模制造过程中的质量控制提供了坚实保障。