CN
面向 55-40 nm 技术节点
可兼容 200/300 mm wafer
高灵敏度
可稳定抓取尺寸 60 nm 及以上缺陷
先进的信号处理算法,有效提高信噪比
宽波段,可抓取各种类型缺陷
高 Throughput
高 Data Rate
多种 Pixel Size 选择
支持 High Speed 扫描模式
智能软件支持
在线智能分类系统 SDA
工艺窗口验证
支持 Design Care Area
自主可控国产供应链
深紫外大通量成像系统
高速深紫外 TDI
高功率 LSP 光源
超精密运动台
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