CN

联系我们
溅射靶材.jpg 溅射靶材（750x500）.jpg

溅射靶材平整度测量

行业挑战

  • 01

    溅射靶材尺寸大，传统接触式轮廓仪或三坐标需逐点扫描，单件检测耗时长

  • 02

    靶材表面精度要求高，传统接触式测头易划伤工件表面，或产生微米级压痕形变，影响靶材使用寿命和溅射性能

  • 03

    接触式测量存在表面污染风险，产品良率难以保障

溅射靶材.jpg

解决方案

磁控溅射属于物理气相沉积（PVD）工艺，常用于沉积导电层、绝缘层和防护层等关键薄膜。溅射过程中，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，使靶材表面原子、分子脱离并沉积至基片形成薄膜。靶材除纯度、导热性能指标外，还要求有良好的平整度，保证薄膜的均匀性和致密性。

天准影像测量仪搭载光谱共焦传感器，专门用于靶材平面度检测。依托光学非接触式测量方案，兼具高精度、高检测速度优势，同时不会划伤、损伤靶材表面，适配大批量靶材精密质检需求。

方案优势

  • x1_iocn2.svg

    非接触测量，对产品无污染、无损伤

  • x1_iocn3.svg

    选配不同规格光谱共焦传感器，满足精度要求

  • x1_iocn4.svg

    光谱共焦传感器支持单点和扫描模式，满足效率要求

相关产品

可能感兴趣的方案