行业痛点
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01工艺尺寸不断微缩
先进制程持续演进,对高灵敏度缺陷检测、套刻(Overlay)与关键尺寸(CD)测量提出更高精度要求。
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02工艺复杂性不断提升
新材料、器件结构的不断变革,以及先进封装、异构集成的快速发展,对跨工艺、多场景量检测能力带来更大挑战。
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03良率保障愈发关键
微小缺陷、细微的尺寸偏差对后续工艺的影响愈发明显,全流程量检测与工艺监控成为良率控制的关键。
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04产线吞吐需求持续攀升
量检测装备需兼顾纳米级精度、高吞吐量及高稳定性,以满足先进制造规模化生产需求。
核心优势
坚持核心技术自主研发,持续完善精密量测、缺陷检测及过程控制能力,为半导体制造提供高精度、高效率、高可靠的量检测解决方案。
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纳米级高精度量检测
依托自主研发的高性能光学系统、精密运动控制及核心软件平台,实现高灵敏度缺陷检测与纳米级量测。
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覆盖关键工艺场景
面向先进制程、先进封装等场景,满足多材料、多结构及多工艺条件下的量检测需求。
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智能过程控制
融合工业 AI 算法与数据分析,实现缺陷识别、工艺监控及过程优化,助力提升良率与制程稳定性。
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高效量产支撑能力
支持高速检测、自动化运行和数据闭环管理,满足先进制造规模化量产需求。